삼성전자, ASML과 12인치 포토 마스크 공동개발
8시간 전
삼성전자가 ASML 주도의 대형 마스크 컨소시엄에 참여해 차세대 12인치 포토 마스크를 공동 개발하기로 했음. 컨소시엄은 반도체 노광 공정에 쓰이는 포토 마스크를 6인치에서 12인치로 전환하고, 공동 연구와 표준 개발을 추진하는 계획임.
삼성전자는 12인치 전환으로 나누어 새긴 패턴을 연결하는 stitching 제약을 해소해 팹 생산성을 높이고 칩 제조 비용을 낮출 수 있다고 설명했음. 이 효과는 전환이 진행될 때의 기대 효과로 제시된 내용임.
High NA EUV 협력은 별도 축으로 진행됨. 삼성전자와 ASML은 2028년까지 첨단 D램 제조에 차세대 노광 설비를 도입하기 위한 협력도 강화할 계획임.
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