케이씨텍

반도체 전공정의 핵심인 CMP 공정에 필요한 장비와, 공정 중에 웨이퍼를 연마하는 데 사용되는 소모성 재료인 슬러리(Slurry)를 함께 개발하고 판매하는 독특한 사업 구조를 가지고 있다. 이는 면도기와 면도날을 같이 파는 것과 유사한 비즈니스 모델로, 장비에 최적화된 슬러리가 공정에서 지속적으로 소모되는 구조다. 주요 매출은 반도체 부문과 디스플레이 부문에서 발생하며, 2024년 기준으로 반도체 부문이 약 80%, 디스플레이 부문이 약 20%의 비중을 차지한다. 특히 고대역폭 메모리(HBM)와 같은 고성능 반도체 생산이 늘면서 CMP 공정의 중요성이 커지고 있어, 관련 장비와 슬러리 수요가 동반 상승하는 선순환 구조를 만들어내고 있다. 반도체 전공정의 CMP는 웨이퍼를 화학 반응과 기계적 힘으로 평탄하게 연마하는 공정이다. 케이씨텍의 CMP 장비는 W·Cu·Oxide 공정에 적용되며, Wet Cleaning System도 반도체 장비 제품군에 포함된다. 소재 부문에서는 Ceria·Silica 계열 CMP 슬러리와 CMP 후 세정용 화학제품을 제시한다. Ceria 슬러리는 입자와 화학물질이 섞인 현탁액으로 연마를 수행하며, Silica 슬러리는 금속 콘택트·플러그·폴리 CMP 등에 쓰인다. 장비와 소재를 함께 제공해 공정 조건에 맞춘 장비 사양·슬러리·세정 화학제품의 조합을 제안할 수 있다.

단순 장비 및 소재 판매를 넘어 고객사의 생산 라인에 최적화된 공정 솔루션을 제공하며 기술적 파트너십을 강화하고 있다. 미국 오리건주에 현지 사무소 설립을 추진하며 인텔, 글로벌파운드리 등 해외 유수의 반도체 기업들을 신규 고객으로 확보하고, 글로벌 시장으로 사업 영역을 적극적으로 확장하려는 움직임을 보이고 있다. 장비는 사양·견적 중심으로, 소재는 기술상담과 샘플 요청을 통해 판매 접점이 마련돼 있다.

▲ 세정·식각·박리·현상 공정에 쓰이는 디스플레이 Wet Station. — 원본 출처

반도체 소부장(소재·부품·장비) 산업은 반도체 칩의 성능과 생산성을 결정하는 국가 핵심 기반 산업으로, 기술 진입 장벽이 매우 높아 한번 시장에 안착하면 장기적인 성장이 가능한 특징이 있다. 특히 AI, 5G, 자율주행차 등 첨단 기술의 발전으로 고성능 반도체 수요가 폭발적으로 증가하면서 소부장 기업들의 중요성은 날이 갈수록 커지고 있다.

글로벌 반도체 장비 시장은 2026년까지 1,390억 달러 규모로 성장할 것으로 전망되며, 특히 AI 반도체와 HBM(고대역폭 메모리) 시장의 급성장은 D램 관련 투자를 촉진시켜 CMP와 같은 전공정 장비 수요를 견인하는 핵심 동력이 되고 있다. 이는 케이씨텍과 같은 관련 기업들에게는 절호의 기회로 작용한다. 케이씨텍은 반도체 장비와 소재를 함께 다루고, 디스플레이 장비도 병행한다. 따라서 매출은 고객사의 설비투자에 따른 장비 납품 시점과 소재 판매 흐름의 영향을 함께 받는다.

최근 미중 무역분쟁과 같은 지정학적 리스크가 심화되면서 각국 정부는 안정적인 반도체 공급망 확보를 국가적인 과제로 인식하고 있다. 이에 따라 국내 소부장 기업들의 기술 자립과 국산화 노력이 더욱 중요해졌으며, 케이씨텍은 CMP 장비와 슬러리 국산화에 성공하며 이러한 시대적 흐름에 대응하고 있다.

케이씨텍은 CMP 장비와 CMP 슬러리를 모두 제품군으로 공개한다. 장비는 웨이퍼를 평탄화하는 설비이고, 슬러리는 연마 입자와 화학물질을 이용해 대상 막질을 화학적·기계적으로 연마하는 소모성 소재다.

케이씨텍의 강점은 CMP 장비와 핵심 소모품인 슬러리를 동시에 자체 개발하고 생산할 수 있다는 점이다. 보통은 장비 따로, 소재 따로 개발하고 공급하는 것이 일반적이지만, 케이씨텍은 이 두 가지를 모두 아우르며 시너지를 창출하고 있다. 이는 마치 프린터와 잉크를 한 회사에서 모두 만드는 격으로, 장비와 소재 간의 최적화를 통해 공정 효율을 높이고 고객과의 관계를 강화할 수 있다. 반도체 미세화 공정이 심화될수록 CMP 공정의 중요성이 커지는 추세여서, 장비와 소재를 함께 공급하는 케이씨텍의 성장 잠재력은 더욱 높게 평가받는다. 장비와 소재를 한 회사가 함께 다룬다는 점은 공정 조건을 통합적으로 이해하는 기반이 된다.

Ceria 슬러리는 반도체 CMP 공정에 사용되며, 입자 크기와 첨가제 조합으로 연마량과 막질별 선택비를 조절한다. Silica 슬러리는 금속 콘택트·플러그·폴리 CMP에 적용된다. CMP 후에는 잔존 연마입자와 유기물·금속 불순물을 제거하는 세정 화학제품도 포트폴리오에 포함된다.

▲ 반도체 CMP 공정용 Ceria 슬러리 제품 이미지. — 원본 출처

삼성전자와 SK하이닉스라는 든든한 국내 고객사를 기반으로 성장해 온 케이씨텍은 이제 미국 시장을 정조준하며 글로벌 영토 확장에 나서고 있다. 특히 인텔의 핵심 생산 기지가 있는 미국 오리건주에 현지 사무소 개설을 구체적으로 검토하며, 장비 공급을 넘어 마진율이 더 높은 슬러리 소재 사업을 확장하려는 야심을 드러내고 있다. 이는 기존의 안방 호랑이에서 벗어나 글로벌 무대에서 직접 해외 유수의 기업들과 어깨를 나란히 하겠다는 선전포고와 같다. 아직 전체 매출에서 미국 시장이 차지하는 비중은 미미하지만, 현지 거점 확보를 통해 글로벌 고객사와의 협력을 강화하고 새로운 성장 동력을 마련하려는 전략적인 행보다. 케이씨텍의 생산 기반은 안성에 있다. 안성 1~7공장과 본사를 운영하고, 동탄 연구소를 두고 있다. 화성·평택·이천·청주·파주에는 고객 대응을 위한 Site 오피스를 마련했으며, 공식 사업장 항목에는 미국법인도 제시돼 있다. 안성의 생산기반과 동탄 연구소, 고객 인근 Site 오피스의 조합은 장비와 소재를 현장 가까이에서 대응하려는 구조로 읽힌다.

▲ 케이씨텍 안성 사업장 전경. — 원본 출처

[기대] 주력 사업인 반도체 화학적기계연마(CMP) 장비 및 슬러리(Slurry) 소재 부문이 견조한 실적을 이어갈 것으로 보인다. 특히 반도체 미세 공정화 흐름에 따라 CMP 공정의 중요성이 커지고 있어, 관련 장비와 소재에 대한 수요가 꾸준히 증가할 것이라는 기대감이 존재한다. 2026년에는 메모리 업체들의 투자가 본격화되면서 장비 매출이 전년 대비 10% 이상 성장할 것이라는 긍정적인 전망도 나온다. [기대] 2026년 2분기 연결 기준 잠정 매출액은 1,127억 원, 영업이익은 235억 원이다. 8월에는 삼성전자와 401억6천만 원 규모의 반도체 제조장비 공급계약도 체결했다. 앞서 3월에는 SK하이닉스와 698억4천만 원 규모의 반도체 제조장비 공급계약을 맺었다. [기대] 신규 장비 개발 및 고객사 다변화에 대한 기대감이 주가에 긍정적인 영향을 미칠 수 있다. 현재 초임계 세정장비에 대한 고객사 테스트가 진행 중이며, 관련 매출이 발생할 경우 기업 가치가 재평가받을 수 있는 요인으로 꼽힌다. 또한, 삼성전자를 대상으로 한 신규 CMP 장비의 성능 테스트(퀄 테스트)가 진행 중이며, 1년 내 공급이 확정될 것이라는 전망이 나오면서 성장 동력 확보에 대한 기대감을 높이고 있다. [기대] 장비와 소재를 함께 다루는 구조는 고객 공정에 맞춘 제품 제안의 폭을 넓힌다. 소재 포트폴리오에는 Ceria·Silica 슬러리와 CMP 후 세정 화학제품이 포함된다. [우려] 디스플레이 장비 부문의 실적 부진이 전체 실적의 발목을 잡을 수 있다는 점은 우려스러운 부분이다. 국내외 디스플레이 업체들의 투자가 위축되면서 관련 장비 수주가 줄어들고 있으며, 이는 케이씨텍의 2025년 전체 영업이익 감소의 주된 원인으로 지목된다. 실제로 2025년 디스플레이 부문 매출액은 전년 대비 큰 폭으로 감소할 것으로 예상된다. [우려] 공급계약 금액은 계약기간 동안의 납품·검수 조건에 따라 매출로 인식된다. 삼성전자 계약 기간은 2026년 8월 11일부터 2027년 6월 30일까지, SK하이닉스 계약 기간은 2026년 3월 9일부터 10월 6일까지다. [우려] 장비 실적은 고객사의 투자 일정에 영향을 받고, 디스플레이 장비도 별도 사업축이다.

7.1분기 실적

2026년 2분기 실적은 8월 5일 공시된 연결 기준 잠정치다. 반기보고서는 8월 13일 공시됐다.

분기 실적은 장비 납품과 검수에 따른 매출 인식 시점의 영향을 받는다. CMP 슬러리와 세정 화학제품은 소재 포트폴리오를 이룬다.

8.1최근 주주 구성

최대주주 및 특별관계인의 보유 주식과 지분율은 기준일에 따라 달라진다. 최근 기준은 2026년 반기보고서의 최대주주 등의 주식소유현황이다.

8.2지분 변동 히스토리

2026년 2월, 최대주주인 고석태 회장의 특별관계자인 고상걸 부회장과 고유현 등이 장내 매도를 통해 일부 지분을 줄여, 고 회장을 포함한 특별관계자 9인의 총 지분율이 53.93%로 소폭 감소했다. 2025년 4월, 최대주주인 케이씨는 안정적인 경영권 확보를 목적으로 케이씨텍의 지분 6.2%를 공개매수한다고 발표했다. 공개매수 가격은 당시 종가보다 13.4% 높은 27,100원으로 책정되었다. 2020년 3월, 고석태 회장 및 특별관계자의 지분율이 기존 48.45%에서 49.84%로 1.39%p 증가했다고 공시했다.

9.1케이씨이노베이션

옛 KPC라는 사명을 가졌던 회사로, 반도체 제조 공정에 필요한 가스 스크러버(Gas Scrubber), 퓨리파이어(Purifier), IR 오븐(IR Oven) 등 환경 장비를 주로 생산한다. 케이씨텍 공식 홈페이지는 KC, KCENC, KC이노베이션, KCIndustrial을 가족사 사이트로 연결한다.

9.2케이씨이앤씨

반도체 및 디스플레이 공장(Fab) 내부에 들어가는 각종 배관(Piping) 시공을 전문으로 하는 기업이다. 클린룸 및 플랜트 시공 기술력을 바탕으로 안정적인 사업을 영위하고 있으며, 반도체 및 디스플레이 산업의 설비 투자(CAPEX) 사이클에 직접적인 영향을 받는다.

9.3케이씨인더스트리얼

과거 케이씨티앤에스라는 이름의 회사였으며, 반도체 관련 산업용 가스 및 특수가스 공급과 무역업을 주력 사업으로 영위한다. 고석태 회장의 아들인 고상걸 부회장이 과거 대표이사를 역임하며 경영에 참여한 이력이 있다.

10.1고객과의 공급계약

삼성전자 핵심 고객사 중 하나로, 케이씨텍의 CMP 장비와 슬러리 등 반도체 장비 및 소재를 공급받고 있다. 최근에는 기존 장비보다 처리량이 20~30% 향상된 신규 CMP 장비의 공급을 위한 성능 테스트를 진행하는 등 긴밀한 협력 관계를 이어가고 있다. 2026년 1월에는 227억 원 규모의 반도체 제조 장비 공급 계약을 체결하기도 했다. SK하이닉스 삼성전자와 함께 케이씨텍의 주요 고객사로, CMP 장비를 비롯한 다양한 반도체 장비를 공급받고 있다. 케이씨텍은 2026년 3월 SK하이닉스와 698억4천만 원 규모의 반도체 제조장비 공급계약을 체결했다. 계약 기간은 2026년 3월 9일부터 10월 6일까지다. 2026년 8월에는 삼성전자와 401억6천만 원 규모의 반도체 제조장비 공급계약을 체결했다. 계약 기간은 2026년 8월 11일부터 2027년 6월 30일까지다.

10.2경쟁 구도

Ebara, Hitachi Chemical 등 일본 기업 케이씨텍은 주력 사업인 CMP 장비 및 소재 분야에서 과거부터 일본의 Ebara Corporation, Hitachi Chemical 등과 같은 기업들과 경쟁 관계에 있다. 일본의 수출 규제 조치 이후 반도체 소부장(소재·부품·장비) 국산화의 중요성이 부각되면서, 이들 일본 기업과의 기술 격차 축소와 시장 점유율 확대가 중요해졌다.

• 2026년 8월 13일 · 반기보고서 (2026.06) · 2026년 상반기 재무·지배구조 정보를 담은 정기보고서다.

• 2026년 8월 12일 · 단일판매ㆍ공급계약체결 — 삼성전자 · 401억6천만 원 규모의 반도체 제조장비 공급계약이며, 계약 기간은 2026년 8월 11일부터 2027년 6월 30일까지다.

• 2026년 8월 5일 · 연결재무제표기준영업(잠정)실적(공정공시) · 2026년 2분기 연결 기준 잠정 매출액 1,127억 원, 영업이익 235억 원을 공시했다.

• 2026년 3월 10일 · 단일판매ㆍ공급계약체결 — SK하이닉스 · 698억4천만 원 규모의 반도체 제조장비 공급계약이며, 계약 기간은 2026년 3월 9일부터 10월 6일까지다.

11.1자료

• 케이씨텍 공식 홈페이지

• 케이씨텍 반도체 장비 소개

• 케이씨텍 소재 소개

• 케이씨텍 사업장 소개